第180章 ASML又來了
另一個(gè)時(shí)空，光刻機(jī)的發(fā)展經(jīng)過了一個(gè)漫長的過程，1960 年代的接觸式光刻機(jī)、接近式光刻機(jī)，到 1970 年代的投影式光刻機(jī)，1980 年代的步進(jìn)式光刻機(jī)，到步進(jìn)式掃描光刻機(jī)，到浸入式光刻機(jī)和8102年的 EUV 光刻機(jī)，設(shè)備性能不斷提高，推動(dòng)集成電路按照摩爾定律往前發(fā)展。
曝光光源方面，從 1960 年代初到 1980 年代中期，汞燈已用于光刻，其光譜線分別為 436nm（g 線...
颶有梗
抱歉，這幾章，專業(yè)性太強(qiáng)查詢了大大量資料，更新修復(fù)上一章節(jié)有點(diǎn)慢，見諒。 另非常感謝大家的推薦票、月票以及打賞支持！ 梗梗在此拜謝！